超純水設(shè)備的制水工藝從傳統(tǒng)的混床工藝發(fā)展到現(xiàn)在edi模塊制取工藝，經(jīng)歷了數(shù)十年，數(shù)十年的發(fā)展使得超純水制取工藝變得更加簡(jiǎn)便，也使得超純水設(shè)備的出水質(zhì)量有了很大程度的提升，不過(guò)在EDI模塊工藝制水的同時(shí)，也有很多因素影響著其性能，下面為大家詳細(xì)介紹一下影響超純水設(shè)備EDI技術(shù)性能的因素有哪些。

系統(tǒng)進(jìn)水的電導(dǎo)率就是主要影響因素，在操控電流不變的情況下，系統(tǒng)進(jìn)水電導(dǎo)率越是增加對(duì)系統(tǒng)污染的去除效果就越不明顯，隨之系統(tǒng)出水的電導(dǎo)率也會(huì)逐漸增加，所以絕大多數(shù)的超純水制備設(shè)備都會(huì)對(duì)原水的電導(dǎo)率有著規(guī)范的要求。

超純水制備系統(tǒng)的運(yùn)行電壓以及運(yùn)行電流同樣是影響設(shè)備技術(shù)性能以及出水質(zhì)量的關(guān)鍵因素，運(yùn)行電流增加，系統(tǒng)最終出水質(zhì)量會(huì)變好，但是電流的增加是有著一定的范圍的，如果超過(guò)了臨界點(diǎn)，電流還是不斷增加，就會(huì)帶來(lái)反作用，出水質(zhì)量不但不會(huì)變好，還會(huì)使出水質(zhì)量下降。

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