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半導體廢水處理的主要優(yōu)點

半導體廢水處理集成了一個沉沒池,I和II級接觸氧化池,一個二級沉淀池和一個污泥池。鼓風曝氣在I和II接觸氧化池中進行,接觸氧化法和活性污泥法有效結合,兩者的優(yōu)點得到了克服,二者的缺點得以克服,從而達到了水平。半導體廢水處理進一步改善。

半導體廢水處理的優(yōu)點

1、承受沖擊載荷的能力強,接觸氧化法的平均停留時間超過6小時。

2、半導體廢水處理具有除氮除磷能力,并可調整設備結構,實現(xiàn)工業(yè)廢水,生活廢水,城市廢水處理能力。

3、接觸氧化池中的填料多為軟質填料,重量輕,強度高,物理化學性質穩(wěn)定,比表面積大,生物膜附著力強,污水接觸效率高和生物膜。

4、在接觸氧化槽中,采用曝氣機進行鼓風曝氣,使纖維束連續(xù)浮動,曝氣均勻,微生物生長成熟,得到活性污泥法的特點。

5、出水水質穩(wěn)定,污泥產量小,易于處理。

6、潛水泵可安裝在設備中,以減少工程投資。

7、半導體廢水處理可以位于地面上或埋在地下。埋在地下時,上蓋可用于綠化,植物面積小,地面結構小。

8、易于完成自動控制,管理和操作簡單。

9、半導體廢水處理可以連接到汽車,使移動設備。

上述就是半導體廢水處理的主要優(yōu)點,希望對大家有所幫助。

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